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光刻压印工艺SUSS 推出新一代手动光刻机

SUSS MicroTec——全球领先的三维集成、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商,于2008年10月1日推出第三代MA/BA8,这款手动双面对准光刻机包含专用于厚胶曝光的亚微米对准及曝光光学系统,具有高度的工艺灵活性。还可轻易升级为多种新兴技术,如紫外纳米压印、微透镜压印、紫外键合和增强型键合对准。SUSS MicroTec新推出的MA/BA8 Gen3将高分辨率和高均匀性完美结合,对准精度可达0.25微米,这已是目前接触式光刻机的最高精度。

  SUSS MicroTec的这款新型手动光刻机适用于各类晶圆和基板材料,是理想的生产解决方案,能满足日益严格的工艺控制要求。因为是基于同一SUSS技术平台,在MA/BA8 Gen3上开发的工艺可很容易地转换到全自动SUSS光刻机,用于量产。

  “MA/BA8的设计,成就了快速有效地开发新工艺,研究新产品,”SUSS MicroTec光刻部总经理Rolf Wolf说,“MA/BA8 Gen3的增强功能,可以协助研究机构开发符合工业标准的设备。”
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